極紫外光微影設備流入中國？ASML 與美國商務部爆發爭議真相

美方指控 EUV 設備外流，ASML 強力駁斥

根據《彭博社》報導，美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）在近期多次會議中，向荷蘭晶片設備大廠 ASML 的高層表達擔憂，認為該公司生產的極紫外光（EUV）微影設備可能已經流入中國。EUV 是全球唯一能製造最先進半導體電路圖案的設備，若流入中國，將嚴重違反自川普首個任期以來，美國對中國實施的出口管制禁令。

針對此項指控，美國政府官員聲稱握有 ASML 將 EUV 相關零組件與運輸設備運往中國的證據，但多次拒絕向《彭博社》或 ASML 公開細節。ASML 則對此回應，中國境內從未存在、也不可能存在此類設備。

技術壟斷與出口管制的商業邏輯

ASML 作為全球 AI 基礎建設中最關鍵的企業之一，其 EUV 技術耗時約 20 年研發，並投入數十億美元。目前全球晶圓代工龍頭台積電（TSMC）生產的所有尖端處理器，皆高度依賴 ASML 的設備。ASML 執行長 Christophe Fouquet 在接受採訪時表示，公司對每一台出貨設備都有嚴格追蹤，且內部設有嚴格防火牆，中國員工無法接觸到 EUV 的核心技術與文件。

ASML 執行長 Christophe Fouquet：你無法對一台你從未擁有過的機器進行逆向工程，而中國境內沒有人擁有過這台機器。

Fouquet 進一步指出，ASML 目前仍向中國出口較舊款的深紫外光（DUV）設備，這是基於商業保護的考量，旨在維持技術代差，而非規避禁令。ASML 預計 2026 年約有 20% 的營收將來自這些合規的中國市場銷售，若為了單一非法交易而冒險違反 EUV 禁令，將嚴重威脅其作為歐洲市值最高企業的地位。

政府監管動機受質疑

值得注意的是，在盧特尼克領導下的美國商務部，去年底同意投入高達 1.5 億美元的納稅人資金，資助開發下一代光源技術的新創公司 xLight。雖然 xLight 執行長曾表示該公司旨在與 ASML 合作而非競爭，但 ASML 對此並不買單。此外，矽谷投資人彼得·泰爾（Peter Thiel）支持的另一家新創公司 Substrate，則明確以挑戰 ASML 的 EUV 壟斷地位為目標。

目前美國國會正推動一項跨黨派法案，擬進一步禁止 ASML 所有 DUV 設備出口至中國，該法案已於 4 月通過關鍵委員會審查。在美國政府同時監管市場壟斷者，並資助其潛在競爭對手的情況下，此次針對 EUV 外流的指控背後動機，仍有待後續觀察。